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基片的清洗

作者:更新时间:2019-08-23 10:37:18浏览次数:
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 本实验采用生物玻璃作为基片,规格为75.5mmx25.5mmx1.0mm。清洗步骤如下:

    (1)在丙酮中超声清洗10分钟;
    (2)在无水乙醇中超声清洗10分钟:(3)用去离子水超声清洗10分钟;.(4)取出基片并在烘箱中烘干,备用。
    基底表面的状态对附着力有着很大的影响,如果表面有污染,就不能使薄膜和基底直接接触,这样导致附着性和均匀性大大降低,所以对Si基片进行彻底的清洗很有必要,下面为其处理过程:
    (1)放入三氯乙烯(主要去除油脂、蜡等污染物),超声五分钟,然后放入去离子水:超声5分钟;
    (2)放入丙酮(去除纤维油脂等),超声五分钟,然后放入去离子水超声5分钟;(3)放入乙醇(去除极性污染、离子污染等),超声五分钟,然后放入去离子水超声5分钟;
    (4)放入氢氟酸(去除表面氧化层),超声三分钟;
    (5)放入去离子水,超声五分钟,最后放入真空烤箱,150C烘烤10分钟,待用。
    一般而言,基材的预处理工艺流程大致相同,但对具体的基材,考虑到其自身的特性,其预处理方法要适当调整。由于本实验所用单面抛光的单晶Si石英和玻璃片基片本身的表面光洁度好,预处理较为简单,其步骤如下:硅片的清洗:
    (1)将盛有一定量丙酮的烧杯置于超声波清洗槽中,放入硅片,进行超声波清洗十分钟,然后将丙酮倒出,用蒸馏水冲洗;在烧杯中注入无水乙醇清洗t分钟。这个步骤可以除去硅片表面上的油脂、蜡和磨料颗粒等。
    (2)在烧杯中加入去离子水,对已经清洗的硅片进行超声清洗十分钟,除去硅片上的K*、Cat等金属离子。
    (3)把硅片从水中垂直取出用氮气吹干,如果不立即使用,应放入干燥瓶中,防止硅片被空气中的尘埃污染。石英和玻璃片基片的清洗:
    (1)将石英或玻璃片自来水和去离子水依次清洗后,浸泡在丙酮中用超声清洗仪清洗10~15min。
    (2)样品取出后用去离子水超声清洗,再浸泡在乙醇中用超声清洗仪清洗10~15min。去离子水超声清洗十五分钟,再用去离子水清洗,
    (3)最后取出置于离子水中盖置备用。实验中用氮气吹干玻璃片或石英进行使用。


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